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삼성전자 전 부장 '반도체 기술 유출 협의' 항소심 징역 6년∙벌금 2억원

재판부, 국가 핵심기술 ‘중국 유출’ 중형 유지
"막대한 피해 유발…국가에도 악영향 준 중대 범죄"
18나노 D램 반도체 증착 공정 및 7개 핵심 공정 기술 유출 혐의

[서울타임즈뉴스 = 허성미 기자] 삼성전자의 반도체 핵심 기술과 기술 인력을 중국에 유출한 혐의로 기소된 전직 부장이 항소심에서도 중형을 선고받았다. 국가 경쟁력에 중대한 영향을 미치는 기술 유출 사건이라는 점에서, 재판부는 "엄중한 처벌이 불가피하다"고 판단했다.

 

23일 법조계에 따르면 서울고법 형사8부(재판장 김성수)는 이날 산업기술보호법 위반 등 혐의로 기소된 전직 삼성전자 기술팀 부장 김모씨(57)에게 징역 6년과 벌금 2억원을 선고했다. 이는 1심에서 선고된 징역 7년에 비해 다소 감형된 판결이다. 김씨와 함께 기소된 반도체 장비업체 A사 전직 부장 방모씨는 1심과 동일하게 징역 2년6개월을, 또 다른 김모씨는 징역 1년6개월을 각각 선고받았다. 나머지 공범 2명은 집행유예를 유지했다.

 

재판부는 "피고인은 피해 회사들에 막대한 피해를 유발하고, 국가 산업 경쟁력에도 심각한 악영향을 준 중대한 범죄를 주도했다"며 "피해 회복 가능성도 없어 이에 상응하는 엄벌이 필요하다"고 밝혔다. 이어 "김씨는 범죄 전력이 없고, 국내에서 재취업이 어려운 상황에서 중국 기업에 취업하며 범행에 이른 것으로 보이다“며 ”삼성전자 핵심 기술 유출에는 직접 관여하지 않은 정황도 있다"며 감형 사유를 덧붙였다.

 

김씨는 2016년 중국 반도체 기업 창신메모리테크놀로지(CXMT)로 이직하며, 국가 핵심기술로 지정된 삼성전자의 18나노 D램 반도체 증착 공정 및 7개 핵심 공정 관련 기술자료를 무단 유출한 혐의를 받는다. 검찰에 따르면, 해당 기술의 개발비용은 약 736억원에 이른다. 또 김씨는 기술 유출 대가로 수백억원대 금품을 받은 것으로 의심되며, 삼성전자 및 협력사 엔지니어 20여명을 CXMT로 스카우트하기 위해 세후 기준 5억원 이상의 금액을 제시한 정황도 드러났다.

 

공범 방씨는 김씨와 공모해 A사의 첨단 설계 기술자료를 CXMT에 넘긴 혐의를 받고 있다. 이 기술은 CXMT의 반도체 증착 장비 개발에 활용된 것으로 파악된다. 이번 사건은 국가정보원이 정황을 포착해 2023년 5월 검찰에 수사를 의뢰하면서 수면 위로 드러났다. 이후 검찰은 2024년 1월 김씨 등을 구속기소했다. 전·현직 반도체 기술자들의 해외 유출이 잇따르며 산업기술 보호의 중요성이 다시금 강조되고 있다. 정부는 기술 유출에 대한 수사와 처벌을 더욱 강화하겠다는 방침이다.


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